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高斯摩(成都)国际贸易有限公司
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ALD（沉积）设备是利用原子层沉积形成纳米级薄膜的设备。由于薄膜是按原子逐层形成的，因此具有精确的膜厚可控性和精确的阶梯涂布性能。但缺点是成膜速度慢。ALD成膜中使用了许多有机金属材料，但其中许多材料对人体有负面影响，并且高度易燃。处理需要专业知识和极其小心。ALD设备的应用ALD设备常用于半导体生产工艺、FPD生产工艺等。近年来，这项技术已成为DRAM生产中的一部分。以下是使用ALD装置形成的薄膜的例子。1.栅极氧化膜形成FET等晶体管时必需的具有高介电常数的薄膜。主要采用Al2O3、ZrO2
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电子束光刻设备是半导体光掩模生产中利用电子束在光掩模毛坯（以下简称毛坯）上绘制电路图形的设备。在存储器、CPU等LSI的制造中，将分割为数十层的光掩模作为母板，使用曝光装置将光掩模上的图案转印到晶圆上来制作电路。光掩模的质量对LSI良率影响最大。因此，在光掩模上绘制图案的电子束光刻设备可以说是LSI制造中最重要的设备之一。电子束光刻设备的应用电子束光刻设备用于在制造光掩模以及制造MEMS等纳米技术产品时在毛坯上绘制电路图案。在LSI制造过程中，掩模制造涉及将设计过程中创建的电子文件上的图案数据转
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步进曝光机是一种用于光刻（半导体和液晶制造工艺）的投射曝光设备。随着IC电路图案的小型化，制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备步进机是一种曝光设备，通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区域。步进机的使用步进机用于半导体和液晶的制造，特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。步进法包括步进重复法和步进重复法，其中，由于一次可以转移的面积较小，因此在步进时将晶圆顺序曝光；以及步进重复法，其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光
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半导体清洗设备是清洗工艺中使用的设备的总称，是半导体制造工艺之一。清洗工艺是重要工艺，占整个半导体制造工艺的30-40%。在高温处理工序或薄膜形成工序之前，有作为前工序的清洗，除去污垢；在除去氧化物和薄膜的蚀刻工序之后，有作为后工序的清洗，除去抗蚀剂残渣。半导体清洗设备大致分为使用化学品和纯水的湿式清洗设备和不使用化学品的干式清洗设备。半导体清洗设备的应用半导体清洗设备用于半导体制造工厂的各种工艺中。它既用于在硅晶圆上形成半导体器件的预处理，也用于分离器件并封装它们以制造最终产品的后处理。特别是
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激光位移计是一种利用激光测量物体位置和距离的装置。激光照射到物体表面，通过光检测并测量物体的位移。无需接触即可进行高精度位移测量。另一个特点是它可以高速检测。激光束照射和光检测几乎同时发生，从而可以立即测量位移。适用于高速运动和振动分析。激光位移计的应用激光位移计可用于多种应用，因为它们能够进行非接触式高精度测量。1.材料变形与应力分析通过测量物体受力时的微小位移和变形，可以评估材料的弹性和刚性。2.建筑物、机器等结构的振动分析可以测量物体的振动频率、振动模式、共振现象等，评价结构的稳定性和耐久
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开关变压器是开关电源的重要组成部分，开关电源是电源的支柱。开关电源内部产生伪高频交流电，并以高频转换和传输电力，从而形成紧凑且高效的电源。通过优化变压器，可以设计出产生更少热量和噪音的电源。这是开关电源最重要的组件。开关变压器的应用顾名思义，开关变压器用于开关电源。由于开关电源应用于所有电气产品，因此开关变压器也应用于所有电气产品。它们被用于从电视和空调等家用电器，路由器和网关等通信设备，复印机和计算机等信息设备，以及半导体制造设备、加工设备和机器人等工业设备。开关变压器原理与其他变压器一样，它
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旋转激光器是一种使用激光的整平装置。名称因制造商而异，有时也称为激光水平仪。找平就是把东西找平，是建筑工地上非常重要的一道工序。如果地板和窗框不水平，建筑物的结构就不干净。旋转激光器在旋转时发射激光束，并且可以通过接收器接收来轻松调平。可在户外大面积或倾斜区域使用。旋转激光器的应用使用旋转激光器进行调平。首先，安装旋转激光器，并在大范围内旋转的同时发射激光。通过在要检查水平度的位置安装接收器并接收激光束，可以轻松完成调平。使用旋转激光器可以让一个人同时工作和测量多个位置。确认水平度后，即可检查混
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HID泛光灯是高亮度放电泛光灯的总称，区别于采用LED作为光源的照明。HID泛光灯使用多种类型的光源，包括汞、金属卤化物和卤素。HID是高强度放电的缩写。另一方面，泛光灯是一种利用反射镜或透镜向特定方向发出强光的照明装置。每种光源都有不同的特性，例如寿命和功耗，因此选择适合您的预期用途的光源非常重要。HID泛光灯的应用泛光灯的特点是发光强度大、亮度高。由于可以自由确定光的发射方向，因此它用于需要将照射位置调整到任意位置的地方，而不是用于照射位置固定的地方，例如路灯。但根据使用目的，HID泛光灯会
