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卧推机是一种在办公桌上使用的小型压力机。由于在桌面上使用，因此也称为台式压力机。将金属等被加工材料放置在压力机的模具之间，对材料施加强大的压力，使其变形为模具的形状并进行加工。它还用于粉末成型和填缝工艺，其中将金属粉末或化学粉末放入模具中并施加高压。由于其结构简单，易于维护，使用寿命长。施加压力的方法包括液压、气动、螺杆和曲柄方法。台式压力机的用途台式压力机用于生产现场，例如生产线和研发现场的装配过程。通过改变压力和驱动方式，以及模具的尺寸和形状，可以实现符合规格的高质量加工。它被广泛应用于电子
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台式铣床是铣床小型化的机床，专为台式使用而设计。与普通铣床一样，可以使用铣刀切削材料，铣刀是连接到旋转主轴的切削刀具。典型的铣床体积大且价格昂贵，因此通常用于商业用途，但如果您使用台式铣床，则可以轻松在家中进行操作。台式铣床配备有主轴、立柱和鞍座，根据主轴的方向分为立式和卧式两种类型。通过使用台式铣床，您可以自由切割金属和塑料等材料。此外，铣床不仅适用于切割，还适用于钻孔和切槽，对于DIY爱好者和那些喜欢手工制作的人来说是非常有用的机床。台式铣床的用途台式铣床主要用于切割金属材料，因为它们可以用
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超连续谱光源（SC光源）又称超连续谱激光器，是发射特殊激光的光源。激光是指具有相同相位的光，即相干光。普通激光器发射单一波长的光，但SC光源是多波长激光光源，可在很宽的波长范围内同时发射多束相位对齐的光。据说，当不同波长的光重叠时，光会变成白色。SC光源发出的激光是相干光，由于包含各种波长的光，因此被称为白激光。SC光源通过将极短的纳秒或皮秒周期的强大脉冲激光穿过光纤电缆来产生这种光。超连续谱光源的应用SC光源发出较宽波长范围的相位对准光，因此被用于光学相干断层扫描（OCT）、共焦显微镜、荧光成
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ALD（沉积）设备是利用原子层沉积形成纳米级薄膜的设备。由于薄膜是按原子逐层形成的，因此具有精确的膜厚可控性和精确的阶梯涂布性能。但缺点是成膜速度慢。ALD成膜中使用了许多有机金属材料，但其中许多材料对人体有负面影响，并且高度易燃。处理需要专业知识和极其小心。ALD设备的应用ALD设备常用于半导体生产工艺、FPD生产工艺等。近年来，这项技术已成为DRAM生产中的一部分。以下是使用ALD装置形成的薄膜的例子。1.栅极氧化膜形成FET等晶体管时必需的具有高介电常数的薄膜。主要采用Al2O3、ZrO2
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电子束光刻设备是半导体光掩模生产中利用电子束在光掩模毛坯（以下简称毛坯）上绘制电路图形的设备。在存储器、CPU等LSI的制造中，将分割为数十层的光掩模作为母板，使用曝光装置将光掩模上的图案转印到晶圆上来制作电路。光掩模的质量对LSI良率影响最大。因此，在光掩模上绘制图案的电子束光刻设备可以说是LSI制造中最重要的设备之一。电子束光刻设备的应用电子束光刻设备用于在制造光掩模以及制造MEMS等纳米技术产品时在毛坯上绘制电路图案。在LSI制造过程中，掩模制造涉及将设计过程中创建的电子文件上的图案数据转
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步进曝光机是一种用于光刻（半导体和液晶制造工艺）的投射曝光设备。随着IC电路图案的小型化，制作全尺寸光掩模图案变得困难。这是指在对大于实际尺寸的掩模图案进行缩小投影曝光时进行分步重复曝光的曝光设备步进机是一种曝光设备，通过执行步进和重复来曝光整个待曝光区域。步进机的使用步进机用于半导体和液晶的制造，特别是用于光刻过程中使用掩模的曝光处理。步进法包括步进重复法和步进重复法，其中，由于一次可以转移的面积较小，因此在步进时将晶圆顺序曝光；以及步进重复法，其中称为扫描仪的标线和存在一种使用步进机进行曝光
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半导体清洗设备是清洗工艺中使用的设备的总称，是半导体制造工艺之一。清洗工艺是重要工艺，占整个半导体制造工艺的30-40%。在高温处理工序或薄膜形成工序之前，有作为前工序的清洗，除去污垢；在除去氧化物和薄膜的蚀刻工序之后，有作为后工序的清洗，除去抗蚀剂残渣。半导体清洗设备大致分为使用化学品和纯水的湿式清洗设备和不使用化学品的干式清洗设备。半导体清洗设备的应用半导体清洗设备用于半导体制造工厂的各种工艺中。它既用于在硅晶圆上形成半导体器件的预处理，也用于分离器件并封装它们以制造最终产品的后处理。特别是
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激光位移计是一种利用激光测量物体位置和距离的装置。激光照射到物体表面，通过光检测并测量物体的位移。无需接触即可进行高精度位移测量。另一个特点是它可以高速检测。激光束照射和光检测几乎同时发生，从而可以立即测量位移。适用于高速运动和振动分析。激光位移计的应用激光位移计可用于多种应用，因为它们能够进行非接触式高精度测量。1.材料变形与应力分析通过测量物体受力时的微小位移和变形，可以评估材料的弹性和刚性。2.建筑物、机器等结构的振动分析可以测量物体的振动频率、振动模式、共振现象等，评价结构的稳定性和耐久
