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METTLERTOLEDO 瑞士梅特勒 电子天平 XPR205/AC的特点2025/5/29
METTLERTOLEDO瑞士梅特勒电子天平XPR205/AC的特点便捷操作体验7英寸彩色触摸屏:配备7英寸电容彩色触摸屏,操作界面直观友好,用户可以通过触摸屏幕轻松完成各种设置和操作,如选择称量模式...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU180X的特点2025/5/26
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU180X的特点无油洁净:采用无油干式技术,通过精密啮合的螺杆式/爪式转子结构实现气体压缩,全程无润滑油,可避免油蒸气对工艺腔体的污染,适用于如晶圆加工等对洁净度要求...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU300XE的特点2025/5/26
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU300XE的特点无油洁净:采用无油干式技术,通过精密啮合的螺杆式/爪式转子结构实现气体压缩,全程无润滑油,可避免油蒸气对工艺腔体的污染,适用于如晶圆加工等对洁净度要...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU600XE的特点2025/5/26
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU600XE的特点无油洁净:采用无油运转设计,避免了油对工艺腔体的污染,可确保环境洁净无残留,适用于对洁净度要求的半导体、液晶、LED及太阳能光伏等行业。抽速高:最大...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU1200XE的特点2025/5/26
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU1200XE的特点抽速高:最大抽速可达20,000L/min,能快速抽取气体,可满足大负载真空需求,大大缩短抽气时间,提高生产效率,适用于对抽气速度要求高的工艺,如...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU100XE的特点2025/5/24
KASHIYAMA日本樫山真空泵MU100XE的特点无油洁净:采用无油干式设计,无需油封,避免了油蒸汽对环境和工艺的污染,特别适合在对洁净度要求的洁净室环境以及敏感工艺中使用,如半导体制造、液晶显示器...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUH3000的特点2025/5/24
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUH3000的特点无油洁净:采用无油运转设计,避免了油污染,可确保工艺腔体洁净无残留,适用于对洁净度要求高的行业,如半导体、液晶、LED及太阳能光伏等。抽速高:最大抽...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP1800E的特点2025/5/24
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP1800E的特点气体适应性强:能够排出含有水蒸气或水滴的气体,也可排出易燃、腐蚀性气体,适用于多种复杂气体环境。运行稳定可靠:摩擦部件少,能承受连续运转,不易出现...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP1200E的特点2025/5/24
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP1200E的特点无油干式运行:采用无润滑油机械结构,避免了油蒸气对工艺环境的污染,特别适用于对洁净度要求场合,如半导体制造、液晶显示制造等。抽气能力强:最大抽速可...
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP600E的特点2025/5/24
KASHIYAMA日本樫山真空泵MUP600E的特点无油干式技术:采用螺杆式/爪式转子结构,通过精密啮合转子实现气体压缩,全程无润滑油,可避免油蒸气污染,特别适合如晶圆加工等对洁净度要求高的敏感工艺。...
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE1203X/TX的特点2025/5/23
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE1203X/TX的特点抽气速度快:最大抽气速度可达20,000L/min。能快速抽取气体,可有效缩短抽气时间,提高工作效率,适用于对真空环境建立速度要求高的工艺。...
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE603X/TX的特点2025/5/23
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE603X/TX的特点抽气速度快:SDE603X/TX属于大排量泵,其最大抽气速度可达10,000L/min,能够快速抽取气体,有效缩短抽气时间,提高工作效率,适用...
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE303X/TX的特点2025/5/23
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE303X/TX的特点大抽速高效能:SDE303X抽速可达5,000L/min,能够快速抽取气体,显著缩短达到真空环境的时间,大幅提升生产效率,在需要快速建立真空状...
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE200的特点2025/5/22
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE200的特点抽速大:最大抽速可达3300L/min,能快速抽取气体,可满足半导体、光电显示等行业苛刻工艺对真空效率的高要求。极限压力低:极限真空度低至1.3Pa,...
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE120TX的特点2025/5/22
KASHIYAMA日本樫山真空泵SDE120TX的特点抽速大:最大抽速可达1500L/min,能快速抽取气体,可满足半导体、光电显示等行业苛刻工艺对真空效率的高要求。极限压力低:极限真空度低至1.3P...

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