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IWAKI易威奇半导体气动泵：精密制造领域的流体控制革新者！
IWAKI易威奇半导体气动泵是专为半导体行业设计的高精度流体输送设备，凭借其耐腐蚀性、高精度控制、无污染设计及高效能特性，在化学液体供药、清洗和CMP（化学机械抛光）制程中表现出色，成为半导体制造领域的重要工具。本文将从技术特点、应用场景及优势三个方面展开分析：
一、核心技术突破：从材料到结构的全面创新
1、无金属污染设计：氟树脂材料的应用
易威奇半导体气动泵的核心过流部件采用PTFE（聚四氟乙烯）与PFA（全氟烷氧基树脂）材质，实现从泵体到阀门的全氟化设计。这种材料组合不仅耐强酸强碱腐蚀，更通过无金属接触设计，将颗粒物产生率降低至行业的0.1μm以下。例如，FS系列泵在180℃高温下仍能保持化学稳定性，适用于氢氟酸、硫酸等高危化学品的输送。
2、高速冲程与低脉动控制
FS系列泵的冲程速度可达240次/分钟（spm），较传统泵提升30%效率。其内置传感器驱动系统通过电磁阀精准控制冲程长度与频率，将脉动宽度压缩至0.06MPa以下。这一特性在CMP（化学机械抛光）制程中尤为关键，可避免因流量波动导致的晶圆表面划痕。
3、模块化维护与智能控制
泵体采用快拆式结构设计，更换开关无需拆卸管路或螺栓，停机时间缩短至15分钟以内。内置式传感器支持PWM信号输入，可与PLC或DCS系统无缝对接，实现流量远程监控与自适应调节。
4、宽温度范围与高压能力
液体输送温度范围可达5°C至180°C，吐出压力高达45MPa，能够适应多种工艺条件，包括高温清洗和高压供药。
二、行业应用：从晶圆清洗到化学品供药的全场景覆盖
1、晶圆清洗与蚀刻：在半导体湿法清洗设备中，易威奇气动泵需输送高纯度化学品（如SC1、SC2溶液）并精确控制流量。FS-N系列泵凭借0.7MPa的高压输出与5-60℃的宽温域适应性，可满足单片清洗设备对高流速、低残留的要求。其氟树脂材质避免了金属离子析出，确保晶圆表面洁净度达到ISO Class 1标准。
2、CMP制程的精密供药：CMP工艺中，抛光液的浓度与流量需精确至毫升级。CFD系列泵以8mL/stroke的微小吐出量与0.05MPa的低压设计，实现纳米级抛光液的稳定供给。其低脉动特性可避免抛光垫表面液膜厚度波动，提升晶圆全局平坦化效果。
3、化学品供药系统的安全保障：在光刻胶、显影液等高价值化学品的输送中，PDS-H115系列泵以12mL/shot的精准计量与1.0MPa的高压输出，结合10,000mPa·s的高粘度适应能力，确保供药系统的稳定性。其IP66防护等级与防爆设计，适用于光刻车间等高危环境。
三、为何选择IWAKI易威奇半导体气动泵？
1. 高可靠性：IWAKI易威奇作为流体控制设备制造商，其产品经过严格测试，能够在恶劣工况下长期稳定运行。
2. 节能高效：气动驱动方式无需电力，降低能耗，同时减少电火花风险，适用于易燃易爆环境。
3. 广泛适用性：泵体可输送低粘度至高粘度液体，满足半导体制造中多种化学液体的输送需求。
4. 智能化控制：内置式开关通过传感器驱动系统控制电磁阀，可轻松连接各种控制器，实现自动化生产。
选择IWAKI易威奇，就是选择半导体制造的“隐形守护者"。
IWAKI易威奇半导体气动泵以材料科学、流体动力学与智能控制的深度融合，重新定义了半导体制造中的流体控制标准。从晶圆厂的无尘车间到化学品供药系统的核心环节，其技术突破不仅提升了生产效率与良率，更推动了行业向智能化、绿色化方向演进。未来，随着AI与物联网技术的进一步渗透，易威奇将持续推动半导体流体控制领域的创新浪潮。
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