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09-212024
09-192024
09-132024
08-30为什么检测CMP研磨液的Large Particle Count(LPC)如此重要?
摘要:化学机械抛光(CMP)是半导体制造中关键的平坦化工艺,而控制研磨液中的大颗粒计数(LPC)对确保晶圆表面质量和提高产品良率至关重要。随着工艺向更小纳米级发展,对LPC的检测精度要求更高。文章讨论...2024
08-222024
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