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11-18大颗粒(LPC)对抛光效率和良品率的影响 — TEOS层的CMP抛光研究
本文隶属于一体化解决方案系列,全文共6324字,阅读大约需要21分钟引言:LPC对CMP制程工艺的影响随着半导体行业的蓬勃发展,作为重要工艺段的CMP获得了广泛的关注。而作为此工艺段的重要原料-CMP...2024
11-182024
11-12两种测定胶体稳定性的分析新技术:SPOS和空间时间消光谱图分析法
本文隶属于一体化解决方案系列,全文共3215字,阅读大约需要12分钟引言:胶体稳定性分析技术本文主要探讨了胶体悬浮液的稳定性控制问题。胶体悬浮液在药物输送、软饮料制造、涂层、抛光等领域有广泛应用,其稳...2024
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