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大塚电子株式会社主要经营范围:光电技术的研发，光电系统集成产品、工业测定和分析设备、仪器仪表及相关零部件的批发、进出口等。大豕为人类更健康而不断**，怀着「多样性」「**性」「世界化」的愿景，不断的推出**产品，面向全球开展业务，为社会作出贡献。以高速·高精度·高可靠性目有市场实际应用的分光器MCPD系列为基础， 在中国的显示器 市场上有着20年以上销售实例，为许多厂家在研究开发、生产部门所使用。并且在光源·照明 相关方面，对***研究机构、各个厂家的销售量在逐步扩大。
分光光谱仪:高感度分光光谱仪 紫外/可见/近红外光分光光谱仪
应用范围:
发光光谱分析仪系统
反射光谱分析仪系统
穿透、吸收光谱分析仪系统
色度光谱分析仪系统
光源光谱分析仪系统(色度/辉度/照度)
膜厚光谱分析仪系统
董光光谱分析仪系统
双折射相位差光谱分析仪
微光学元件光谱分析仪系统
产品规格:
分光光谱仪-2285C 分光光谱仪-3095C 分光光谱仪-3683C分光光谱仪-311C分光光谱仪-916C波长范围 220~850nm 300~950nm 360~830nm 360~1100nm 900~1600nm分光系统 平面场型
检测单位 电子冷却型CCD图像传感器 电子冷却型InGaAs图像传感器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch理论分辨率 1.4nm 0.7nm 1.4nm 0.7nm 1.0nm 0.5nm 1.6nm 0.8nm 1.9nm光纤规格 石英光纤、口徑φ12mm、长度约2m 掺锗石英光纤、长度约2m
星测功能 发光光谱量测、反射率光谱量测、穿透率光谱量测、吸收光谱量测尺寸重量 110(W)x230(H)x282(D)mm，约6kg
产品特点:
*高动态范围(HDR)光谱仪可量测透明、低对比、高反射率样品，*适用于量测光通量。*有效抑制杂散光，*适合UV光谱分析。相较于本公司历代分光光度计，杂光率仅约五分之一*曝光时间5msec~65sec*。适用于量测微弱光源以及架设于生产线上即时检测等多元应用。"经过特殊设计缠系统光纤，展现稳定的重复再现性量测，*小巧轻量化的设计，相较于历代机型，容积比约减少60%。
紫外/可见/近红外光分光光谱仪
产品规格
型号规格28C311C3593C
波长范围 220~800 nm 330~1100 nm 350~930 nm
分光元件 全息成像光栅、F=3、f=135mm
波长精度*1 ±0,3 nm>±0.5 nm ±0.3 nm
感光元件*2 电子制冷型CCD影像感测器
512ch 1024ch 512ch 1024ch 512ch 1024ch解析能力 1.2nm 0.6nm 1.7nm 0.9nm 1.3nm 0.6nm
曝光时间*3 20msec~20sec
光纤规格 石英制光纤、固定口径12mm、长约1m
通讯介面 USB Or LAN
尺寸重量 300(W)x170(H)x350(D)mm、约10kg
*1 波长校正用光源对汞物理辉线之确认值
*2 可选择512ch或1024ch
*3 感度设定为Normal时
产品特点:
*多通道分光光谱仪高速量测紫外光(UV)、可见光(VIS)、近红外光(NIR)光谱。
*功能丰富的专用软体，可进行显微分光、发光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光谱量测。
采用更专业的CCD影像感测器，感光能力较MCPD-3700约高出200~700倍，在微弱光领域亦实现了20~30倍的高信噪比。
**适用于低辉度(0.3cd/m2)，如萤光、电浆发光等微弱光以及光源、显示器量测。
*搭配功能丰富的专用软体，可进行显微分光、发光光源、表面反射率、穿透率、色度、膜厚等光谱量测。
可架设于生产线上、真空环境或嵌入于现有设备中即时量测。
三.膜厚仪:显微分光膜厚仪 反射式厚量测仪 椭m 360~1100nm 900~1600nm膜厚量测仪 膜厚光谱分析仪系统 显微分光障厚是狈
仪
应用范围:
* FPD
·LCD、TFT、OLED(有机EL)
* 半导体、复合半导体
·矽ct time Measurement Time 1秒/1
* 盗料储存
·DVD、磁头薄膜、磁性材料
* 光学材料
·滤光片、抗反射膜
*平面显示器
液晶显示器、薄膜电晶体、OLED
*薄膜
·AR膜
*其它
·建筑用材料
产品规格
型号OP-A1OP-A2 OP-A3
波长范围 230~800nm 360~1100nm 900~1600nm
膜厚范围 1nm~35um 7nm~49um 16nm~92um
样品尺寸 Max.200mmx200mmx17mm
点径φp 5um(反射40倍镜头)，改造后可达到3um
tact time Measurement Time 1秒/1点
尺寸本体(W555xD537xH559mm),控制单元(W500xD180xH288mm)功用750 VA
*1上述式样是带有自动XY平台。
*2 release 时期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3预定2016年9月
*3 膜厚范围是Si02换算:
产品特点:
*膜厚测量中必要的功能集中于头部,
*通过显微分光高精度测量**反射率(多层膜厚、光学常数)
*1点只需不到1秒的高速tact.
*实现了显微下广测量波长范围的光学系(紫外~近红外)
*通过区域传感器控制的**构造，
*搭载可私人定制测量顺序的强大功能。
*即便是没有经验的人也可轻松解析光学常数,
各种私人定制对应(固定平台，有嵌入式测试头式样)
四.反射式膜厚量测仪:
产品规格:
型号标准型 厚膜专用型
样品大小*大200mmx200mmx7(厚度)mm
可测层数
膜厚范围
发寸
1nm~40um 0.8um~210um 1um~240um 80um~1mm
波长范围190nm~760nm 230nm~800nm 330nm~1100nm430nm~970nm 750nm~850nm 900nm~1600nm 1490nm~1590nm
测试单元
CCD CCD CCD PDA PDAInGaAs InGaAs
膜厚精度
±0.1nm(以NIST认证的标准样品为依据)*2
重复性精度(2.10)
膜厚测试(Si基板上的SiO膜 100nm未满:0.1nm*3
100nm以上:0.07%
反射率测试(Si基板)230nm~250nm:0.8%*4
250nm~800nm:0.4%*4
800nm~1050nm:0.8%*4
测试光斑*5φ40um、p20um、10um、p6.6um、(p5um对物镜头反射式对物镜头倍数:x10倍、x20倍、x30倍、x40倍
折射式对物镜头(可视):x5倍、x10倍、x20倍
测试光源D 2(紫外光)、12(可见光)、D2 + 2(紫外-可见光)
XYZ stage自动stage 手动stage行程X:200mm、Y:250mm、Z:10mmX:200mm、Y:250mm、Z:10mm重复性精度2um<0.5um>
驱动分辨率1um<0.1um>
尺寸·重量481 (W)mmx770(H)mmx714(D)mm约96kg 427 (W)mmx770(H)mmx725(D)mm约88kg
控制单元自动stage 手动stage尺寸·重量300(W)mmx710(H)mmx450(D)mm约34kg 300(W)mmx380 (H)mmx450(D)mm约18kg
电源 规格AC100V+10V 750VA AC100V+10V 500VA
软件
测试
手动测试/连续测试/制图测试(mapping)/测试与计算同步功能非线性*小二乘法/波峰波谷解析法/FFT解析法/*适化法
解析
基板解析/里面反射补正/各类nk解析模型式**反射率/解析结果Fitting/折射率n的波长相关性/消光系数k的波长相关性3D显示功能(面内膜厚分布、鸟窥图、等高线、断面图)系统维护材料文件构建(database管理)、硬件的各种设定基官样品对焦的数值显示功能、自动对焦功能(自动stage有此功能)、内部反射补正功能
数据处理
数据处理台式电脑、显示器、打印机
*1具体请咨询本公司。
*2以VLSI公司的标准样品(100nm Si02/Si)范围值保证书为依据。
*3量测VLSI公司的标准样品(100nm Si02/Si)同一点位时之重复性。(2.1倍0)4具体参照相关保证书，
5镜头为选配件，具体请咨询本公司。
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