去胶清洗机是一种用于去除半导体、电子元件、光学器件等表面胶水、胶膜等污染物的设备,以下是其一般使用方法:
使用前准备
设备检查:全面检查设备各部件是否完好,包括保险丝是否正常、设备地线是否可靠连接、腔体是否干净等。确保设备符合正常操作要求,若发现问题应及时停止使用并维护或修理。
物料准备:将需要清洗的物件,如半导体芯片、电子线路板等,准备好并放置在合适的位置,以便顺利进料。
环境清洁:保持设备周围的环境清洁,防止杂物进入设备或操作区域,影响设备的正常运行和清洗效果。
人员防护:操作人员应穿戴好防静电服、静电鞋等相关安全防护装备,避免因静电等因素对设备或清洗物件造成不良影响。
进料与预定位
进料:通过特定的进料机构将待清洗物件放入去胶清洗机内,进料机构通常具有定位和固定功能,能确保物件在清洗过程中处于合适位置,方便后续的清洗操作。
预定位:物件放置到位后,设备会对物件进行预定位,使清洗喷头或清洗工具能够准确地对准物件需要清洗的部位,保证清洗的精准性和全面性。
清洗阶段
清洗液供给:去胶清洗机会将专门的清洗液输送到清洗喷头或清洗工具上,清洗液的成分通常是根据污染物的种类和性质进行选择的,对于胶水、胶膜等污染物,一般会采用含有有机溶剂、表面活性剂等成分的清洗液。
清洗动作:清洗喷头或清洗工具在电机、气动装置或液压装置的驱动下,按照预设的程序和轨迹对物件进行清洗。常见的清洗动作包括喷淋、旋转、刷洗、超声波振动等。
清洗时间控制:清洗时间是根据污染物的种类、严重程度以及清洗液的性质等因素来确定的。去胶清洗机通常会配备定时器或时间控制系统,操作人员可以根据具体情况设置合适的清洗时间。
漂洗阶段
清水供给:清洗完成后,去胶清洗机会自动切换到漂洗模式,将清水输送到漂洗喷头或漂洗水槽中,清水的作用是去除物件表面残留的清洗液和溶解在其中的污染物,防止清洗液对物件造成二次污染。
漂洗动作:漂洗喷头或物件会在漂洗槽中进行漂洗,漂洗的方式和动作与清洗阶段类似,可以是喷淋、浸泡、旋转等。
干燥阶段
干燥方式选择:去胶清洗机常用的干燥方式有热风干燥、红外干燥、真空干燥等。热风干燥是通过加热器产生热风,吹向清洗后的物件表面,加速水分的蒸发;红外干燥是利用红外线的辐射能量,直接对物件进行加热干燥,具有加热速度快、效率高的特点;真空干燥则是将物件置于真空环境中,降低水的沸点,使水分在较低的温度下迅速汽化,适用于一些对温度敏感的物件。
干燥过程控制:在干燥过程中,去胶清洗机会对温度、湿度、时间等参数进行精确的控制。例如,对于热风干燥,会控制热风的温度在合适的范围内,避免温度过高对物件造成损坏;对于真空干燥,会控制真空度和干燥时间,确保水分能够充分去除。
出料与检测
出料操作:干燥完成后,去胶清洗机会通过出料机构将清洗干净的物件送出设备,出料机构通常具有平稳、可靠的特点,能够确保物件在出料过程中不会受到碰撞或损坏。
收集与检测:物件出料后,会被收集起来进行后续的检测或包装。操作人员会对清洗后的物件进行外观检查、性能测试等,确保去胶清洗的效果符合要求。
免责声明
- 凡本网注明“来源:化工仪器网”的所有作品,均为浙江兴旺宝明通网络有限公司-化工仪器网合法拥有版权或有权使用的作品,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用上述作品。已经本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:化工仪器网”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
- 本网转载并注明自其他来源(非化工仪器网)的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品第一来源,并自负版权等法律责任。
- 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。