精品啪啪一级免费视频双光子无掩膜光刻的原理介绍

来源：纳糯三维科技（上海）有限公司Nanoscribe 2023年08月11日 13:28

　　一、受益于双光子灰度光刻对体素的微调，该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑，同时保持高精度的形状控制。从纳米到介观尺度原型制作：同类中先的3D打印系统。可打印任何形状，已被工业界认可的QuantumX平台的二代加工系统。

　　二、原理作用过程：

　　(1)通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置，实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。

　　(2)不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具，同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。

　　三、特点与优势：

　　1.自动化自校准路径保证的高精度激光能量控制及定位

　　2.可达6英寸基片和硅片的广泛选择

　　3.工业化批量生产：200个标准介观尺度结构通宵产量

　　4.保证实用性和体验感的触控屏和远程控制功能

　　5.快速原型制作，高精度，高设计自由度，简易明了的工作流程

　　6.工业验证的晶圆级批量生产

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