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利用ICP-OES分析高浓度钯(Pd)内的微量硒(Se)

阅读:1670      发布时间:2020-03-26
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    钯(Pd)是目前半导体超微镀金使用的非常重要的元素之一。由于是用于超微镀金,所以主要成分钯(Pd)的准确含量很重要,所含杂质的定量也非常重要。

 

    与其他无机元素分析设备相比,ICP-OES的使用方法简单,不需要考虑过多即可取得正确的结果。然而,由于各种波长干扰,分析含有高浓度(100ppm,mg/ Kg或更多)特定元素的样品中的杂质并不容易。为了控制或消除这种波长干扰,业内从很久以前便开始使用干扰元素校正(IEC,Inter-Element Correction),但该方法因为根据干扰的高浓度成分的含量制造和应用IEC模型很麻烦,所以一般并不使用。珀金埃尔默ICP-OES不受高浓度基体干扰的影响,使用可控制或消除干扰的MSF(Multi-Spectral Fitting),一直适用于多种样品,其优异性能已经得到证实。

    但是高浓度钯(Pd)中硒(Se)的情况比较特殊,硒(Se)与钯(Pd)的波长重合,难以使用IEC或MSF模式。由此导致硒(Se)的检测结果比预期值高出20~50倍。本文中尝试找出解决该问题的方法。

提供商

珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

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