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利用NexION 2000S ICP-MS分析NMP介质中的超痕量杂质

阅读:2218      发布时间:2020-03-25
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    NexION 2000S ICP-MS采用PerkinElmer通用池技术,进一步强化动态反应池功能,在与存在碰撞除干扰技术局限而不得不应用冷等离子体的竞争公司的单四极杆ICP-MS或在有机物分析方面有局限的三重四极杆质谱仪ICP-MS相比有明显优势,不仅能检测金属元素,还能检测非金属元素。PerkinElmer的UCT-ICP-MS采用动态反应池技术,在所有元素分析中都使用热等离子体,测试有机样品时更有优势,可以轻松获得稳定、可信的结果。

 

    NMP广泛应用于半导体工艺,用于清除光刻胶工艺后残留的光刻胶有机物, 使用ICP-MS检测NMP中的金属或非金属元素时,由于NMP自身的属性会导致分析元素的离子化效率低,且NMP分解生成的氮、氧和碳会对分析物造成干扰,所以这个一直是ICP-MS分析领域的一-个难题。

   
    本应用的目的是确认NexION 2000S对高纯度NMP中所含金属和非金属杂质的检测能力。

提供商

珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司

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