NMP广泛应用于半导体工艺,用于清除光刻胶工艺后残留的光刻胶有机物, 使用ICP-MS检测NMP中的金属或非金属元素时,由于NMP自身的属性会导致分析元素的离子化效率低,且NMP分解生成的氮、氧和碳会对分析物造成干扰,所以这个一直是ICP-MS分析领域的一-个难题。
本应用的目的是确认NexION 2000S对高纯度NMP中所含金属和非金属杂质的检测能力。
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