设备介绍

扫描电子显微镜+电子束曝光

蔡司sigma300扫描电镜用来观察微米及亚微米级别的导电材料的材料表面结构，用途广泛。凝聚态方向主要用来检查制作的微型电路，波导等材料的结果鉴定。

扫描电镜搭载Raith电子束曝光软件，可实现维型电路的设计和曝光，最大写场1000um，最高精度100nm。

性能指标：分辨率：20nm---10kV，加速电压：100V-30kV, 放大倍数：50-500K，探测器：二次电子探测器SE2，Inlens探测器和红外CCD相机。 

主要应用：适用于导电材料和非导电材料表面形貌的观察，获得表面形貌的二次电子像。 

样品要求：固体非粉末干燥样品，样品表面干净，无油污，无磁性，且不易被磁化，样品中不得含有铁（Fe）、钴（Co）、镍（Ni）。高度小于20mm，直径小于50mm。 多孔类或易潮解的样品，请提前真空干燥处理。 样品应具有导电性。若样品不导电，需要进行镀金、碳等导电膜的处理。 

注：文章转载于上海交通大学物理与天文学院公告平台《扫描电子显微镜&电子束曝光》