在半导体制造领域，温度控制的精度和稳定性对芯片性能以及生产良率有着直接影响。然而，传统温控设备存在能耗较高、精度相对不足以及稳定性欠佳等问题，这些问题已然成为制约半导体材料有效生产的关键因素。
一、半导体行业行业挑战
一方面，控温精度不足，在低温工况下易出现温度回升现象，可能导致光刻胶形变或研磨液性能波动，进而影响工艺一致性；
另一方面，效率低下，能耗较高，且由于控温精度不足，可能导致原料浪费与生产成本增加。这些问题已然成为制约半导体材料有效生产的关键因素。
冠亚恒温聚焦半导体行业的控温需求，凭借其高精度的温控解决方案以及创新技术优势，帮助企业达成更有效、更稳定的生产目标。
二、半导体行业控温解决方案
半导体温控设备Chiller适用于集成电路、半导体显示等行业，温控设备可在工艺制程中准确控制反应腔室温度，是一种用于半导体制造过程中对设备或工艺进行冷却的装置，其工作原理是利用制冷循环和热交换原理，通过控制循环液的温度、流量和压力，带走半导体工艺设备产生的热量，从而实现准确的温度控制，确保半导体制造过程的稳定性和产品质量。
三、半导体温控Chiller核心产品
FLTZ变频单通道Chiller
➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等
➤温度范围：-100℃~+90℃，控温精度±0.05℃
➤技术亮点：变频泵可调整循环液压⼒、流量；智能变频节能控制，降低使用能耗；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制
FLTZ系列双通道Chiller
➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等
➤控温范围：-45℃~+90℃，控温精度：±0.1℃
➤技术亮点：系统支持双通道独立控制温度、流量压力；采用变频控温技术，可根据客户需求定制产品
FLTZ变频三通道Chiller
➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等
➤控温范围：-20℃～+100℃，控温精度：±0.1℃
➤技术亮点：三通道整合，支持每个通道独立控温范围、导热介质流量；深化性能开发，匹配刻蚀工艺需求
面板Chiller
➤介绍应用：应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等
➤控温范围：+15~+30℃，控温精度±0.05℃
➤技术亮点：高扬程设计⽀持⼤流量⾼负载，确保严苛⼯况下持续稳定运⾏；智能变频节能控制，减少⽆效能耗；符合三通道⼯艺设计要求，确保信号/流体的独⽴传输与准确控制
ETCU换热控温单元
➤介绍应用：应用于PVD、CVD、PECVD、ALD⼯艺等
➤冷却⽔温度范围：+5℃~+90℃，控温精度±0.05℃
➤技术亮点：系统⽆压缩机，通过换热降温；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制
四、为什么选择冠亚恒温？
1、深耕半导体领域：服务半导体后道生产流程工艺中，覆盖半导体FAB工艺过程控温、半导体封测工艺过程控温。
2、定制化服务能力：依托模块化平台，提供标准化与个性化结合的解决方案。
五、冠亚恒温半导体温控Chiller温控系统技术优势
1、变频技术与节能：采用变频技术，结合精心设计的系统结构和自主开发的控制算法，能够准确调节压缩机的输出频率。在满足制程需求的前提下，降低能耗，为企业节省运营成本。
2、全密闭式系统：采用全密闭设计，有效杜绝油雾和异味产生，延长导热液体的使用寿命。
3、快速加热与制冷：参与循环的导热液体量少，使得加热和制冷速度大幅提升。响应速度快，能够及时适应工艺过程中的温度调整需求。
4、模块化设计：系统结构紧凑，占地面积小，安装和移动都十分便捷。这种设计使得设备能够灵活适应不同的生产场地和工艺布局，为企业节省空间和安装成本。
5、智能监控与诊断：可同时监控、设定和控制流量、泵压、温度等参数，实时显示运行状态。设备具备故障自动诊断功能，并拥有多项报警保护功能，能够提前预警潜在问题，保障生产的连续性和稳定性。
6、控制重复性与稳定性：基于动态控制系统，确保每次控制结果的一致性，有效提升生产稳定性。
7、自适应PID控制：采用自适应PID算法，能够自动适应不同的环境和负载条件，无需人工调整参数，这大大降低了操作难度和维护成本，提高了设备的智能化水平。
温度控制是半导体制造过程中一项重要的工艺环节。冠亚恒温半导体温控Chiller凭借技术创新作为发展动力，通过提供准确、稳定且有效的温控系统，协助企业优化生产流程，降低资源消耗，推动企业实现高质量的制造生产。
