电子半导体纯水设备维护保养
电子半导体纯水设备的维护保养需结合多维度管理策略,具体要点如下:
一、日常维护要点
1.滤芯监测与更换
每批次制水后检查PP棉滤芯颜色变化,发黄面积超1/3时立即更换;反渗透膜安装在线电导率仪,产水电阻率下降15%即触发预警。
前置过滤器(如石英砂、活性炭)定期反冲洗(1-3天/次),石英砂每3-6个月检查磨损情况,活性炭6-12个月更换。
2.压力参数管理
每日记录进水与浓水压力差,压差超过0.15MPa优先检查保安过滤器,压力表指针进入红色区域超2小时自动停机。
3.密封性检查
每周执行O型圈润滑保养,采用“眼看、手摸、纸测、保压"四步法检测微渗漏。
二、反渗透(RO)系统维护
1.清洗周期判断
产水量下降10%-15%、脱盐率下降5%-10%或压差增加10%-15%时需清洗,一般3-6个月/次。
2.化学清洗流程
使用专用清洗液循环清洗1-2小时,重度污染可延长浸泡时间,最后大流量冲洗30-60分钟去除污染物,冲洗水pH需控制在6.5-7.5。
三、EDI模块维护
1.前置过滤器维护
定期更换滤芯,确保EDI模块免受污染。
2.模块再生与清洗
通过电化学反应去除杂质,使用专用清洗剂按手册操作,关注电导率异常升高现象。
四、离子交换树脂管理
1.再生周期
树脂交换容量下降时需再生,通常1-3个月/次,再生液(酸/碱)浓度、流速需严格把控。
2.更换标准
树脂破碎率达40%或多次再生后性能未恢复时更换。
五、周期性深度保养
1.季度维护
紫外线灯管强制更换(9000小时)、EDI模块极水流量调节、储水罐CIP清洗(0.1%过氧乙酸循环30分钟)。
2.年度大修
反渗透膜离线分段清洗、泵体拆解维护、管路系统臭氧与巴氏杀菌交替消毒。
六、环境与水质管控
1.运行环境
保持设备干燥清洁,湿度控制防止微生物滋生。
2.水质监测
每日检测电导率、TOC等参数,异常时触发预警机制。
七、停机维护策略
长期停用时排空储水并消毒,重启前检查水路电路,放水15分钟确认水质正常后再启用。
通过以上多维度维护体系,可有效延长设备寿命3-5年,降低突发故障率80%。