变频化学真空系统配有可连续优化的电子真空控制功能，通过精确且持续地调节隔膜泵的马达转速来实现真空控制。集成的CVC 3000真空控制器只需按一下按钮，就可以实现全自动的蒸发控制。这个系统的结构紧凑，重量轻，在实验室使用非常便捷。泵根据需求调变马达速度，降低了能量消耗和机械磨损，使得膜片等磨损件的寿命超长。该系统受欢迎的另一个原因是其运行非常安静。PC 3001是以MD 1C VARIO-SP化学隔膜泵为基础泵，其2mbar的极限真空非常适合用于高沸点溶剂。出气口的废气冷凝器（EK）效率高，结构紧凑，可实现近100%的溶剂回收效果。
使用方法：
变频化学真空系统方法是在封闭的真空系统中进行化学制备的方法。化学真空系统是由玻璃管或金属管路把反应器与机械泵和油扩散泵(或汞扩散泵)串联而构成。泵和反应器之间连接一个大冷阱，以防止反应器中的反应物进入油扩散泵或油扩散泵中的油蒸气进入反应器。冷阱由盛有液氮的杜瓦瓶组成，保持77K的低温。反应器与真空系统的一段相连接，真空系统的另一段由一系列U形冷阱组成，能将不同挥发性的产物分别冷凝分离。
例如在变频化学真空系统中合成三氯化硼时，可令气体先通过一个195K的冷阱（盛有干冰和丙酮混合物），凝聚除去四氯化硅，然后通过一个161K的冷阱（盛有干冰和二硫化碳混合物），凝聚得到较纯的三氯化硼。未被凝聚的HCl气体后可在77K的冷阱（盛有液氮）中凝聚下来。本法适用于对空气中的氧气和水蒸气十分敏感而又容易挥发的物质，如硅烷、硼和硅的卤化物、某些金属有机化合物等的制备。
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