1 、对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。

2、对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。

    根据槽开口尺寸的不同，可在浴槽内进行恒温实验，亦可通过软管与其他设备相连接，与恒温源配套使用。内循环：通过泵对槽内液体介质的循环吞吐，增加槽内温度的均匀性，减少温度波动。外循环：通过泵的循环能力，利用出水口将保温软管与外部设备连接，形成封闭回路，流回设备进水口，是将槽内恒温介质外引，建立外部恒温场。制冷能力在10KW以上大型循环水冷却恒温器广泛应用于 X －衍射仪、磁质谱仪、疲劳试验机、真空镀膜机、塑料成形设备、激光切割机、 X －荧光光谱仪、红外光谱仪、差热分析仪、核磁共振等具有高制冷恒温要求设备。