L2002A ossila紫外臭氧清洗机UVO

ossila紫外臭氧清洗机UVO为实验室级表面处理设备，通过高功率紫外光源（主波长185nm/254nm）激发臭氧反应，实现高效无损伤清洁。系统操作流程简明：放置样品于温控托盘→关闭舱门→设置清洗时长（≤59分59秒）→启动运行，即可快速分解有机污染物为挥发性物质，获得超洁净表面（接近原子级清洁度）。

核心功能特性

1. 广谱清洗能力

• 适用基材：石英、硅、氧化硅、氮化硅、金、镍、铝、砷化镓、矾土、玻璃、不锈钢等

• 去除污染物：光刻胶、树脂、人体皮肤油脂、溶剂残留、表面油渍、助焊剂、单分子膜等

2. 多功能工艺应用
   支持表面亲水性改良、薄膜沉积预处理、AFM/STM探针清洗、光学元件清洁、表面氧化处理、紫外固化及灭菌消毒等9类工艺。

3. 工程优化设计

• 抽屉式样品台（直径153mm，最大承载厚度12mm）

• LCD双显界面（实时显示已用时间/剩余时间）

• 四灯管阵列配置（灯管尺寸150×15mm）

• 安全联锁机制（运行中舱门锁定防护）

ossila紫外臭氧清洗机UVO技术参数说明

1. 紫外灯类型：配置4支合成石英紫外灯管

2. 波长输出：双波段185nm与254nm协同作用

3. 灯管尺寸：单支尺寸150mm（长）×15mm（直径）

4. 驱动参数：4000V高压供电，工作电流30mA

5. 电源规格：标准版230V/0.6A/50Hz，可选配110V/1.2A/60Hz版本

6. 使用寿命：T80标准下2000小时，常规实验室使用周期8-10年

7. 设备尺寸：长300mm×宽204mm×高227mm

8. 安全防护：三重保护（机械联锁、超温报警、自动断电）

紫外臭氧清洗原理：

紫外臭氧清洗是一种光敏氧化过程，其中短波紫外线辐射被有机分子吸收以将其从表面分离  (通过与臭氧分子的化学反应)。这是一种非常好的技术， 用于清洗基材表面的树脂，清洁 溶剂的残留物，助焊剂，油以及表面消毒等，所有这些有机污染物都会影响样品表面的性能。 与其他清洁技术(例如氧等离子体处理) 不同，紫外臭氧清洗不会导致样品表面损伤。

紫外臭氧系统使用高强度紫外光源， 用 185nm 和 254nm 两种波长的光照射目标表面。系统 内存在的分子氧(O2) 通过波长小于 200 nm 的紫外线辐射分离产生两个氧自由基(O•)。这 些自由基中的每一个随后可以与另外的分子氧反应产生臭氧(O3)分子。未被残余氧吸收 的 200nm 以上的 UV 辐射，会被基材表面上存在的有机化学污染物强烈吸收，一旦被吸收， 这会导致活性或有机自由基的产生。这些反应性有机物质在与不稳定的臭氧分子接触时，会 导致挥发性物质如 CO2 ，H2O ，N2  和短链有机化合物的形成。这些挥发性化合物可以很容 易地从表面上分解吸收， 保持基材的清洁。